化学機械平坦化（CMP）スラリー市場の概要

化学的機械的平坦化（CMP）スラリーの世界市場規模は、2024年に62億米ドル。市場は2024年から2033年にかけてCAGR 7.3%で拡大し、2033年末には108億米ドルを超える見込みです。

化学的機械的平坦化（CMP）スラリーは、化学的・機械的な力でシリコンウェーハや半導体デバイスの表面を平滑化する半導体製造工程で使用されます。 電子・半導体デバイスの需要拡大がCMPスラリー市場の成長を牽引しています。IoT、5G、AIなどの先進技術を搭載したスマートフォンやノートパソコンなどの電子機器の需要が、CMPスラリー市場の需要を押し上げています。このような電子機器では、強力でエネルギー効率の高い半導体の生産が求められるため、ウェーハ製造に使用される高度なCMPスラリーのニーズが高まります。例えば、IBIS Worldによると、米国の家電量販店の売上高は現在1,606億ドルで、2025年の成長率は1.4%にとどまり、利益は3.9%で安定しています。Applied Materials Inc.、Entegris Inc.、荏原製作所、Lapmaster Wolters Gmbh、Dupont De Nemours Inc.

日本のCMPスラリー市場概要

日本の化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場は、CMPスラリーの先端材料に焦点を当てています。日本は、世界の半導体サプライチェーンで重要な役割を果たす高純度化学品と半導体製造材料の主要サプライヤーであり、日本のCMPスラリー市場を後押ししています。さらに、日本の高精度材料ツールと研究開発活動は、CMPスラリー市場の需要の成長にさらに貢献しました。例えば、2024年1月、富士フイルムは日本でチップ製造用のCMPスラリーの生産を開始し、日本のCMPスラリー市場を加速させました。フジミ、バイコフスキー、AGC、エンギス、トッパン・インフォメディア、レゾナックがCMPスラリー市場を牽引。富士見、バイコフスキー、AGC、エンギス、トッパン・インフォメディア、レゾナックは、日本における化学的機械的平坦化(CMP)スラリー市場における重要なプレーヤーの一例です。

化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場の促進要因 - アナリストの見解

アナリストによると、CMPスラリー市場の主な成長要因は以下の通りです：

• 半導体製造技術の進歩： 半導体製造技術の進歩：サブ7nmチップの開発や3D NANDフラッシュメモリへのトレンドなど、半導体製造プロセスの継続的な進歩は、特殊なCMPスラリーの高い需要を生み出し、CMPスラリー市場の成長を促進しています。さらに、FinFETやAIを駆使したプロセッサーでは、より高精度で検出のない表面が求められており、CMPスラリーはこれらの製造プロセスで重要な役割を果たし、高性能コンピューティングや次世代データストレージソリューションを可能にすることで、CMPスラリー市場の成長を促進しています。また、世界中で半導体製造工場が増加していることも、CMPスラリー市場を後押ししています。例えば、堀場製作所は2024年11月、CSシリーズで開発された高度な機能を搭載した薬液モニタリングシステム「CS-1000」を発売しました。

• 電気自動車と車載用半導体の採用増加： 電気自動車と自律走行技術の採用が増加しており、高度なパワーエレクトロニクス、センサー、マイクロコントローラーの需要がCMPスラリー市場の需要を刺激しています。さらに、CMPスラリーは高精度の半導体部品の製造に不可欠な要素であり、CMPスラリー市場の成長をさらに後押ししています。さらに、メーカーの継続的な努力と研究開発活動により、欠陥率が低く、平坦化能力が強化された特殊なCMPスラリーが開発され、市場を牽引しています。例えば、Entegris社は、EVとパワーIC向けに炭化ケイ素の高度CMPを提供しています。

化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場動向を阻害する要因は？

当社の分析によると、CMPスラリーの世界市場成長を制限すると予想される課題は以下の通りです：

• 高い製造コストと複雑な製造工程： CMPスラリーは精密な配合と厳格な品質管理が必要なため、製造コストが高くなります。高純度の研磨剤、化学剤、安定剤の使用は高価であり、CMPスラリー市場の成長を制限します。

• 代替平坦化技術との競合： CMPは支配的な平坦化技術ですが、ドライエッチングや電気化学的平坦化など、CMPスラリーと競合し、市場の成長を妨げる可能性のある代替技術も登場しています。

化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場はどのようにセグメント化されていますか？

当社の専門家は、以下のポイントに従ってCMPスラリー市場をセグメント化しています：

• 用途別

• 集積回路
• 自動車
• メムズとネムズ
• 光学
• 化合物半導体
• その他

• 技術別

• 最先端
• ムーアを超える
• 新興

• タイプ別

• CMP装置
• CMP消耗品
  • スラリー
  • パッド
  • パッドコンディショナー
  • その他消耗品

• 製品タイプ別

• 自動車
• 家具
• 衣類
• 電子機器
• その他

• エンドユーザー別

• 住宅
• 商業用
• レジャー
• 個人
• 企業
• 教育機関
• その他

• 流通チャネル別

• 電子商取引
• 実店舗

• 地域別

• 北米（米国、カナダ）
• ヨーロッパ（イギリス、ドイツ、フランス、イタリア、スペイン、イギリス、ロシア、トルコ、その他のヨーロッパ地域）
• アジア太平洋地域（中国、日本、インド、韓国、インドネシア、マレーシア、オーストラリア、ニュージーランド、その他のアジア太平洋地域）
• 中南米（ブラジル、メキシコ、アルゼンチン、その他の中南米地域）
• 中東・アフリカ（イスラエル、GCC、北アフリカ、南アフリカ、その他の中東・アフリカ地域）

これらすべての調査で考慮されるタイムラインは以下の通りです：

2023 - 基準年

2024 - 推定年

2024-2033 - 予測期間

化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場予測で最も高い市場シェアを持つアジア太平洋地域に影響を与える可能性のある要因は何ですか？

化学的機械的平坦化(CMP)スラリー市場予測において、アジア太平洋地域の市場シェアが最も高く、急速に成長しているのは、半導体製造によるものです。中国、韓国、台湾、日本にはTSMC、サムスン、SKハイニックスなどの大手半導体メーカーがあり、CMPスラリー市場の成長を牽引しています。例えば、東京精密（TOKYO SEIMITSU CO. 例えば、東京精密株式会社は、各種測定システムや半導体製造装置を製造する日本の大手メーカーの1つであり、ウェーハ製造システム、ウェーハプローバ、ダイシングソーなど、半導体産業向けの幅広い製品を提供しています。さらに、中国やインドのような国々におけるスマートフォン、家電製品、自動車用半導体の需要の高まりが、この地域におけるCMPスラリー市場の成長をさらに促進しています。

米国に代表される北米は、IntelやGlobal Foundriesといった半導体大手の存在により、CMPスラリーの主要な消費国となっています。さらに、米国政府の取り組みも国内の半導体製造に貢献しており、CMPスラリー市場のさらなる成長が期待されています。例えば、米国の著名な企業であるアプライド・マテリアルズ社は、半導体チップの製造に使用されるシステムの設計と製造を目指しており、市場を後押ししています。 さらに、半導体の性能向上と小型化のための研究開発活動への多額の投資が、北米市場の成長を後押ししています。欧州では、半導体製造と研究開発活動への投資が増加しており、CMP（化学的機械的平坦化）スラリー市場を後押ししています。さらに、英国、ドイツ、フランスでは自動車産業が確立しており、欧州のCMPスラリー市場の成長をさらに加速させています。中南米の化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場は、電子および自動車用半導体産業の需要増加が牽引しています。さらに、ブラジルやアルゼンチンなどの国々が電子機器組立や半導体パッケージングの主要プレーヤーとして台頭しています。中東とアフリカは、技術インフラへの投資の増加により、化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場の成長を目撃しています。

化学機械平坦化（CMP）スラリー市場の主要企業

化学的機械的平坦化（CMP）スラリー市場の主要企業は以下の通りです：

• アプライド マテリアルズ
• エンテグリス
• 荏原製作所
• ラップマスター・ウォルターズ
• デュポン株式会社
• 株式会社フジミ
• レバサム株式会社
• レゾナックホールディングス株式会社（昭和電工マテリアル株式会社）
• オカモト株式会社
• 富士フイルム株式会社（富士フイルムホールディングス株式会社）
• 東京精密株式会社 株式会社アクリテッククリエイト
• その他